水環(huán)式真空泵一般工藝中的應(yīng)用
2020-12-23 21:45????點(diǎn)擊：
水環(huán)式真空泵一般工藝中的應(yīng)用(1)N2清洗 N2清洗的目的是稀釋真空泵內(nèi)部的反應(yīng)氣體;水環(huán)式真空泵為泵的轉(zhuǎn)軸提供密封;防止真空泵排氣口滲入空氣及水分N2清洗的氣體量可根據(jù)需要調(diào)整。(2)配冷阱 冷阱通常是裝在真空泵的吸氣口及排氣口位置,目的是減少反應(yīng)生成物滲入到泵的量,減輕真空泵的負(fù)擔(dān);減輕廢氣處理的負(fù)擔(dān)。
溫度控制根據(jù)工藝過(guò)程反應(yīng)生成物的不同,為防止其附著在泵內(nèi),對(duì)無(wú)油機(jī)械真空的排氣口機(jī)矽烷系統(tǒng)(TEOS)原料呈液體狀態(tài),TEOS與反應(yīng)副產(chǎn)物混合,形成凝膠狀而堵塞真空泵排氣口,這時(shí)在排氣口應(yīng)加冷阱。利用PECVD工藝制備絕緣膜時(shí),TEOS的反應(yīng)副產(chǎn)物以白色粉末狀通過(guò)真空泵,因此應(yīng)選用非接觸型真空泵。清洗氣體使用NF3,C2F6,ClF3等與上述反應(yīng)副產(chǎn)物結(jié)合,再形成另一種副產(chǎn)物,對(duì)真空泵有不良影響,此時(shí)可利用降低真空泵溫度的方法解決。
